多組分吸附穿透曲線分析儀助力天工大團(tuán)隊(duì)在《Angew》發(fā)表新成果 :氟化MOF基六氟丙烯納米阱用于高效純化八氟丙烷電子特種氣體
發(fā)布日期:2024-03-15 來(lái)源:貝士德儀器
八氟丙烷(C3F8)作為含氟電子特種氣體之一,,因其良好的化學(xué)和熱穩(wěn)定性、較低的大氣壽命和更有效的蝕刻/清洗性能而廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路制造領(lǐng)域,。然而工業(yè)上C3F8的生產(chǎn)通常伴隨著六氟丙烯(C3F6)雜質(zhì),無(wú)法滿足集成電路制造領(lǐng)域?qū)3F8的純度要求,。由于C3F8和C3F6具有非常相似的物理和化學(xué)性質(zhì),,以及接近的分子尺寸,,生產(chǎn)高純度的C3F8是一個(gè)充滿具有挑戰(zhàn)性和復(fù)雜性的過(guò)程,。工業(yè)上通常采用精餾方法進(jìn)行C3F6/C3F8分離,但其能耗大,,設(shè)備投資高,。相比之下,吸附分離技術(shù)具有優(yōu)勢(shì),。
圖1. (a) 具有均勻的窄通道的分子篩分吸附劑分離選擇性高,但吸附容量低,;(b)孔徑大的吸附劑吸附容量高,但分離選擇性低,;(c)籠狀MOF的氟化孔隙工程策略,,有望解決吸附容量和選擇性選擇性之間的權(quán)衡問(wèn)題
圖4.(a) Zn-bzc-CF3中C3F6的最佳吸附構(gòu)型,;F···H-C的距離為2.15-3.80 ? (紅色虛線),,F(xiàn)···F的距離為2.53-3.53 ? (綠色虛線);(b) Zn-bzc-CF3中C3F6吸附的獨(dú)立梯度模型分析,。
論文信息:
Fluorinated MOF-Based Hexafluoropropylene Nanotrap for Highly Efficient Purification of Octafluoropropane Electronic Specialty Gas
Mingze Zheng, Wenjuan Xue, Tongan Yan, Zefeng Jiang, Zhi Fang, Hongliang Huang,* Chongli Zhong,*
Angewandte Chemie International Edition
DOI: 10.1002/anie.202401770
貝士德 吸附表征 全系列測(cè)試方案
測(cè)樣,、送檢咨詢:楊老師
138 1051 2843(同微信)
多組分吸附穿透曲線分析儀助力天工大團(tuán)隊(duì)在《Angew》發(fā)表新成果 :氟化MOF基六氟丙烯納米阱用于高效純化八氟丙烷電子特種氣體
發(fā)布日期:2024-03-15 來(lái)源:貝士德儀器
八氟丙烷(C3F8)作為含氟電子特種氣體之一,,因其良好的化學(xué)和熱穩(wěn)定性、較低的大氣壽命和更有效的蝕刻/清洗性能而廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路制造領(lǐng)域,。然而工業(yè)上C3F8的生產(chǎn)通常伴隨著六氟丙烯(C3F6)雜質(zhì),,無(wú)法滿足集成電路制造領(lǐng)域?qū)3F8的純度要求。由于C3F8和C3F6具有非常相似的物理和化學(xué)性質(zhì),,以及接近的分子尺寸,,生產(chǎn)高純度的C3F8是一個(gè)充滿具有挑戰(zhàn)性和復(fù)雜性的過(guò)程。工業(yè)上通常采用精餾方法進(jìn)行C3F6/C3F8分離,,但其能耗大,,設(shè)備投資高。相比之下,,吸附分離技術(shù)具有優(yōu)勢(shì),。
圖1. (a) 具有均勻的窄通道的分子篩分吸附劑分離選擇性高,但吸附容量低,;(b)孔徑大的吸附劑吸附容量高,,但分離選擇性低;(c)籠狀MOF的氟化孔隙工程策略,,有望解決吸附容量和選擇性選擇性之間的權(quán)衡問(wèn)題
圖4.(a) Zn-bzc-CF3中C3F6的最佳吸附構(gòu)型;F···H-C的距離為2.15-3.80 ? (紅色虛線),,F(xiàn)···F的距離為2.53-3.53 ? (綠色虛線);(b) Zn-bzc-CF3中C3F6吸附的獨(dú)立梯度模型分析,。
論文信息:
Fluorinated MOF-Based Hexafluoropropylene Nanotrap for Highly Efficient Purification of Octafluoropropane Electronic Specialty Gas
Mingze Zheng, Wenjuan Xue, Tongan Yan, Zefeng Jiang, Zhi Fang, Hongliang Huang,* Chongli Zhong,*
Angewandte Chemie International Edition
DOI: 10.1002/anie.202401770
貝士德 吸附表征 全系列測(cè)試方案
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